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實驗室凈化要求介紹

來源:http://545600bbs.com/發布時間:2019/1/8瀏覽次數:504次

實驗室凈化要求介紹

      手術室凈化要求在實驗室的凈化過程,從實驗室中才能看到的手術室要求凈化,這是一個非常嚴謹的過程,現在看我們來看看其中的過程吧!

       隨著加工精度成為一般原則,手術室凈化工程公司變得越來越小,因此對溫度變化范圍的要求越來越小。例如,在大規模集成電路的制造的光刻曝光工藝,在玻璃和硅晶片作為掩模材料之間的熱膨脹系數的差需要為小。在硅晶片的溫度上升1°導致0.24微米,該產品的線膨脹后必須具有0.1°±恒定溫度和一個人出汗被污染和清潔濕度值通常較低。

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